某半导研发品牌因晶圆清洁工作制作工艺出现含氨化工废水，需水量200吨/天。化工废池里除氯离子外还有氟化物和轻微巨资属，进行处理難度大。位置排放出细则特殊要求氯离子＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 生产废水化学物质及来自 晶圆擦拭生活污水（主耍来源于）：含氟化物200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀步骤污水：含少量铜、镍等巨资属，pH值冲击大 CMP研磨抛光废气：含硅颗粒剂及高锰酸盐指数 治理 方法步奏 应用"化学反应结晶+膜离心分离+折点氯化"团体制作工艺： 预治疗 ：污泥脱水CaCl2除氟，有效控制pH在7.5-8. 反渗透膜设计 ：删去0.01μm左右粒状物 反融于高浓 ：将氧化还原电位浸提至1000mg/L以内 折点氯化 ：精度把控氯添加量，将化学需氧量应用为离氮气 阳离子互转 ：保险高价属符合标准 结果疗效 氧化还原电位相对稳定＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 巨资属含氧量最低探测限 水回收利用率达75% 飞灰诞生量缩短40%