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硅片清洗废水处理案例|硅片清洗废水处理方法

该厂为8英尺晶圆制作线配置的超净水系统化,经常导致含硅废水治疗150吨。废水治疗中虽无巨资属,但硅含碳量高易水垢,且电阻值率需起到18MΩ·cm方能使用。现有治疗艺是无法满意新实行的《电子元器件工业化水被污染的物污染物的标准》(GB39731-2020)尤其是污染物规定值。 废水处理方法成分表优势特点 一般环保问题物 :固体硅(200-300mg/L)、顆粒硅(粒级0.1-1μm) 异常需求 :TOC<10μg/L,硼含氧量<5μg/L 水环境特质 :低纯水电导率(<50μS/cm)但硅单质价值形式繁琐 整理生产技术流程图 去创新主要采用"梯级膜分开+电去亚铁离子"组成技术: 微滤预外理 :1μm淘瓷膜阻拦大颗粒状硅,通量达到80LMH 正离子调换不饱和树脂 :D201大孔硅橡胶选购性离心分离硅酸大分子 二级考试RO系统 :1、段回收利用率60%,2段适用高脱硼膜开关元件 EDI电去铁离子 :直流电压密度计算公式2A/m²,连续清理残留铝离子 UV紫外线灭菌 :254nmUV紫外线灯线用量40mJ/cm² 技术工艺特点 设计规划特用阻硅剂(有机肥料胺类挽回物),减慢膜破坏周期时间3倍 EDI传感器改革创新流道定制,硅的还原率提高至99.8% 在线播放硅具体检测仪(测定超范围0.1-500μg/L)实现目标靶向调控 运营取得的成绩 经三是方检查: 总硅从280mg/L降为0.05mg/L 硼含水量从8μg/L下降0.3μg/L 软件系统收废率从原40%大幅提升至68% 膜换新频次缩短至5年,年加载代价降35%

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