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半导体研磨废水怎么处理|半导体研磨废水如何处理

新项目情况 本次目建在西北地区划分一个前十强半导体材料制做公司企业,大部分生产制造89寸大和129寸大晶圆。近年来产能利用率优化,精磨工艺技术会产生的废蓄水量从之前的200吨/日延长到350吨/日,同一治理 油烟净化器已没有考虑具体需求,且留水水质量不稳定性,亟待扩建工程和改变污废水 治理 平台。 废污水成份及渠道 该厂家磨研污水基本来于以下的程序: 化学工业机械化粉磨机(CMP)化工废水:所含二空气阳极氧化硅、空气阳极氧化铝粉等粉磨机颗粒剂,孔径在0.1-1μm超范围 晶圆正背研磨机生活污水:富含硅粉、彩石铁离子(铜、铝等)及极少量无机加剂 薄片机磨废水处理:首要含量为炭化硅颗料和分割油精华液 废液性质具体表现为:pH值价格波动大(2-11)、悬浮物物溶度高(500-2000mg/L)、带有微量分析天价属和难分解有机酸物,COD大多数在200-500mg/L时间范围。 外理加工过程方法 經過反复小试和中试,后面敲定使用下例除工院艺: 调理池 :设置成pH网上监测网和自主投加药剂系统化,将废水处理pH不稳在6.5-7.5位置 沥青混凝土凝固 :加药聚合反应迟钝氯化铝(PAC)和阴正离子型聚丙稀酰胺(PAM),结合反应迟钝后进入斜板水解池 溶气气浮 :适用部门分流式溶气气浮,进步骤出掉微小颗粒肥料和电解质溶液物资 多物料过虑 :用石英晶体砂+催化活性碳有级滤过,保障溢水SS<10mg/L 膜处置软件 :涉及到反渗透设备性膜(UF)和反渗透设备性(RO)有级,RO浓水单单处里 淤泥治理 :积累和和气气浮飞灰经板框压滤后清运处里 核心加工过程因素:沥青混凝土阶段性G值抑制在60-80s⁻¹,症状日期15min;气浮流失比30%,逗留日期20min;超滤膜通量60LMH,反侵入二手回回收利用率75%。 以后结果 设备运营安全后,出水量生活饮用水全起到《光学工业园水造成的废水排出出规定》(GB39731-2020)相当排出出允许值追求,基本指标英文有以下: SS<5mg/L(剔除率>99%) COD<30mg/L(除掉率>93%) 铜化合物<0.3mg/L 出水量中水回用率提升65%大于 工业废水回收利用40% compared to原加工 本次目总资金约1200多万元,使用制造费约8.5元/吨水,每次可避免废水处理工艺的用水量下跌六万吨级,收旧水成本4万吨级,区域经济效用和大环境效用重要。

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